کانن در بازار تجهیزات فوق پیشرفته صنعت تراشه، رقیب ASML میشود
تجهزات جدید تراشه‌سازی کانن موسوم به NIL امکان ساخت تراشه‌های ۵ نانومتری و در آینده‌ی نزدیک ۳ و ۲ نانومتری را فراهم می‌کنند.
فقط یک شرکت در جهان توانایی ساخت تجهیزات EUV (لیتوگرافی فرابنفش شدید) را دارد. این دستگاه که ابعادی در حد اتوبوس دارد برای حک الگوهای مدار نازک‌تر از موی انسان روی ویفر سیلیکونی استفاده میشود. این شرکت هلندی، ASML نام دارد که سال گذشته حدود ۲۶ میلیارد دلار درآمد داشت. ماشین‌های EUV برای تولید تراشه‌های زیر ۷ نانومتر ضروری هستند؛ زیرا برای جا دادن میلیاردها تزانزیستور روی تراشه‌های پیشرفته، باید خطوط بسیار ظریفی حکاکی کنید.
هفته‌ی گذشته، کانن (Canon) فناوری لیتوگرافی نانوایمپرینت (NIL) را برای تولید تراشه‌های ۵ نانومتری معرفی کرد. TSMC و سامسونگ از دستگاه‌های EUV برای ساخت تراشه‌های مبتنی‌بر فرایند ۳ نانومتری استفاده می‌کنند و این تجهیزات به‌زودی امکان تولید پردازنده ۲ نانومتری را نیز ارائه خواهند داد. هر دو تراشه‌ساز انتظار دارند تا سال ۲۰۲۵ تراشه‌های ۲ نانومتری تولید کنند.
کانن توضیحاتی درمورد تفاوت NIL ارائه داده است:
برخلاف تجهیزات لیتوگرافی معمولی که الگوی مدار را با پرتاب آن روی ویفر روکش انتقال می‌دهند، محصول جدید این کار را با فشار دادن ماسکی که الگوی مدار آن روی ویفر چاپ‌شده انجام می‌دهد. در روش جدید، فرایند انتقال الگوی مدار ازطریق مکانیزم نوری انجام نمی‌شود و می‌توان الگوی مدارهای ظریف روی ماسک را به‌طور دقیق روی ویفر بازتولید کرد.
– کانن
کانن می‌گوید با بهبود فناوری ماسک، NIL در نهایت می‌تواند به ساخت تراشه‌های ۲ نانومتری کمک کند. درحال‌حاضر این تکنولوژی می‌تواند الگوهای مدار را با حداقل پهنای خط ۱۴ نانومتری که معادل تولید تراشه‌های ۵ نانومتری است، حکاکی کند. طبق اعلام شرکت ژاپنی، انتظار می‌رود NIL از حداقل پهنای خط ۱۰ نانومتر پشتیبانی کند و این یعنی امکان ساخت تراشه با فرایند ۲ نانومتری را خواهد داشت. NIL می‌تواند توان مصرفی مورد نیاز برای ساخت تراشه را نیز کاهش دهد؛ زیرا به منبع نور با طول موج خاص نیاز ندارد.
گاوراو گوپتا، تحلیلگر گارنتر درمورد تجهیزات NIL کانن می‌گوید:
اگر کانن به چنین پیشرفت فنی بزرگی دست یافته باشد، شگفت‌زده خواهم شد.
– گاوراو گوپتا، گارنتر
لیتوگرافی Nanoimprint از مدتی قبل به‌عنوان راهکاری مفهومی وجود داشته اما نقص‌ها و مشکلاتی در آن دیده میشود. SK Hynix به‌عنوان سازنده‌ی تراشه‌های حافظه و شرکت توشیبا سال ۲۰۱۵ قراردادی برای توسعه‌ی NIL امضاء کردند.
بااین‌حال مشکلی وجود دارد که ایالات متحده باید آن را به‌سرعت برطرف کند. ASML تجهیزات EUV خود را به‌دلیل تحریم‌های این کشور به چین ارسال نمی‌کند اما امکان دارد کانن تجهیزات تراشه‌سازی NIL را به چین بفروشد و بدین‌ترتیب شرکت‌هایی مثل SMIC بتوانند تراشه‌های ۵ نانومتری و در نهایت ۳ و ۲ نانومتری تولید کنند.
هواوی، میت ۶۰ پرو را با تراشه‌ی ۷ نانومتری Kirin 9000s و پشتیبانی از 5G عرضه کرد که این اقدام با واکنش قانون‌گذاران و مقامات آمریکایی مواجه شد. درحال‌حاضر تئوری‌های زیادی وجود دارد که سعی دارند توانایی SMIC را در ساخت تراشه‌های ۷ نانومتری و با وجود تحریم‌های صادراتی ایالات‌متحده توضیح دهند. اخیراً گفته شد Kirin 9000s تراشه‌ی ۷ نانومتری نیست و درواقع همان Kirin 9000 قدیمی هواوی محسوب میشود. برخی دیگر اعتقاد دارند این تراشه را TSMC قبل از شروع ممنوعیت کار با چینی‌ها در سال ۲۰۲۰ و با استفاده از فرایند ۵ نانومتری ساخته است.