قانون جدید آمریکا برای ممنوعیت تجهیزات DUV شرکت ASML، می‌تواند صنعت تراشه چین و غول‌هایی چون Huawei و SMIC را فلج کند.

صنعت نیمه‌هادی چین ممکن است با یک شوک جدی روبه‌رو شود؛ چراکه قانون‌گذاران ایالات متحده درحال حرکت به‌سمت ممنوعیت صادرات تجهیزات حیاتی شرکت ASML به چین هستند. اقدامی که به‌گفته طراحان آن با هدف محدودسازی شدید و از کار انداختن توان چین در ساخت و توسعه فناوری‌های تولید تراشه دنبال می‌شود.

حرکت قانون‌گذاران آمریکا برای ممنوعیت صادرات فناوری DUV ASML به چین
چین مدت‌هاست با محدودیت‌های صادراتی آمریکا، به‌ویژه در حوزه نیمه‌هادی، دست‌وپنجه نرم می‌کند. این صنعت زمانی ضربه بزرگی را تجربه کرد که دولت آمریکا از طریق هلند و شرکت ASML، به‌طور غیرمستقیم صادرات تجهیزات لیتوگرافی EUV به چین را ممنوع کرد. هرچند این تصمیم پکن را به تقویت زنجیره تأمین داخلی تراشه سوق داد، اما عملاً پیشرفت چین در رقابت فناوری فرایند ساخت را محدود کرد؛ به‌طوری‌که چین «به‌صورت رسمی» به فناوری ۵ نانومتری محدود شده است.

اکنون، براساس بیانیه‌ای از کمیته روابط خارجی، قانون‌گذاران آمریکا درحال آماده‌سازی برای تصویب قانون MATCH هستند؛ قانونی که درصورت اجرایی‌شدن، صادرات تجهیزات لیتوگرافی DUV را نیز ممنوع می‌کند. گامی که بسیاری آن را تلاش مستقیم برای فلج‌کردن زیرساخت تولید تراشه چین می‌دانند.

در توضیح این قانون آمده است:

«این قانون دوحزبی، کنترل‌های صادراتی آمریکا را به‌روز می‌کند تا اطمینان حاصل شود دشمنان نتوانند فناوری‌های گلوگاهی تجهیزات ساخت نیمه‌هادی (SME) را از آمریکا یا شرکای ما خریداری کنند؛ فناوری‌هایی که خودشان قادر به ساخت آن نیستند.

با هماهنگ‌سازی کنترل‌های صادراتی میان متحدان و بستن خلأهای مربوط به خدمات و شرکت‌های خاص، قانون MATCH برتری فناوری آمریکا را در رقابت هوش مصنوعی با چین حفظ می‌کند.»

— جیم ریش، سناتور ایالات متحده

چرا DUV برای چین حیاتی است؟
برای درک اهمیت تجهیزات لیتوگرافی DUV برای چین باید دانست که این فناوری درحال‌حاضر تنها گزینه عملی برای کارخانه‌های تراشه‌سازی (فَب‌ها) در این کشور است. غول‌های تراشه‌سازی چین مانند SMIC، هواوی و Hua Hong و همچنین تولیدکنندگان حافظه نظیر CXMT و YMTC به‌طور کامل به تجهیزات DUV وابسته هستند.

شرکت SMIC از ماشین‌های DUV شرکت ASML برای فرایندهای N+1 و N+2 در کلاس ۷ نانومتری استفاده می‌کند؛ فرایندهایی که از طریق چندالگویی (Multi‑Patterning) به‌دست آمده‌اند. درهمین‌حال، CXMT و YMTC نیز از ماشین‌های DUV برای افزایش ظرفیت تولید حافظه استفاده می‌کنند. با توجه به اینکه شرکت‌های بزرگ چینی در سال‌های اخیر به‌شدت درحال افزایش ظرفیت تولید بوده‌اند، ممنوعیت احتمالی DUV می‌تواند این تلاش‌ها را به‌شدت مختل کند.

مفاد قانون MATCH و پیامدهای آن
قانون MATCH پیشنهاد می‌کند «فروش یا ارائه خدمات» تجهیزات DUV از نوع Immersion ممنوع شود و این تصمیم را با این استدلال توجیه می‌کند که این تجهیزات برای نوسازی فناوری‌های نظامی چین به کار گرفته می‌شوند. همچنین در این قانون پیشنهاد شده است که تمامی کاربران چینی DUV که نام آن‌ها ذکر شد، با محدودیت‌هایی مشابه قانون Entity List مواجه شوند؛ محدودیت‌هایی که دسترسی آن‌ها به بازارهای خارجی را مسدود می‌کند.

هرچند قانون MATCH هنوز به تصویب نهایی نرسیده و به قانون تبدیل نشده است، اما شواهد نشان می‌دهد قانون‌گذاران آمریکا این‌بار یکی از حیاتی‌ترین اجزای زنجیره تأمین نیمه‌هادی چین را هدف گرفته‌اند.

تأثیر بر ASML و بازار جهانی
انتظار می‌رفت خرید تجهیزات DUV از سوی مشتریان چینی در فصل‌های آینده افزایش یابد؛ به‌ویژه با سرمایه‌گذاری سنگین شرکت‌هایی مانند CXMT و YMTC در خطوط تولید جدید. بااین‌حال، براساس تازه‌ترین گزارش ASML، چین حدود ۲۰ درصد از کل درآمد این شرکت را به خود اختصاص داده است. درآمدی که تقریباً به‌طور کامل از فروش تجهیزات لیتوگرافی DUV حاصل شده است.

با رسمی‌شدن قانون MATCH، احتمال دارد ASML با چالشی تازه در عرصه ژئوپلیتیک مواجه شود؛ چراکه این شرکت هلندی ممکن است دسترسی به یکی از بزرگ‌ترین بازارهای نیمه‌هادی جهان را از دست بدهد.

وابستگی عمیق چین به DUV
وابستگی چین به فناوری DUV در سال‌های اخیر بسیار پررنگ بوده است. اگرچه صنعت داخلی این کشور تلاش‌هایی برای توسعه تجهیزات بومی انجام داده، اما این تلاش‌ها عمدتاً به فرایندهای بالغ مانند ۲۸ نانومتر محدود شده‌اند. برای فرایندهای پیشرفته‌تر(مانند ۷ نانومتر) کارخانه‌های چینی به‌شدت به فناوری ASML وابسته بوده‌اند؛ موضوعی که باعث می‌شود قانون‌گذاری جدید آمریکا به یک دردسر بزرگ برای صنعت نیمه‌هادی چین تبدیل شود.